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Intels Fortschritte in der EUV-Technik - 4/5
02.08.2004 by holger

Die folgende Abbildung zeigt die reflektierende Maske in der EUV-Lithographie-Technik:


links: EUV-Lithographie; rechts unten: derzeitige Technik

Doch wo steht die EUV-Lithographie heute? Wie nah ist Intel an der Serienproduktion von fertigen Mikroprozessoren?

Bis dahin ist es sicher noch ein weiter Weg. Stand der Technik sind experimentelle Masken, mit denen spezifische Muster hergestellt werden können.


Mit EUV-Lithographie erzeugte Testmuster


Mit EUV derzeit erzeugbare Strukturen für die 32 nm Fertigung

Weiter: 5. Ausblick in die Zukunft

1. Durchbruch in der Lithographie-Technik
2. Die Problemstellungen der EUV-Lithographie
3. Die Rolle der Reflexion
4. Stand der Dinge
5. Ausblick in die Zukunft

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