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Intels Fortschritte in der EUV-Technik - 5/5
02.08.2004 by holger

Ein treffendes Resümee lieferte Ken David selbst: “We are making progress toward implementing EUV lithography technology in manufacturing with the 32nm process in 2009. This technology will help us continue to deliver the benefits of Moore’s Law into the next decade.”

Anhand des nachfolgenden Zeitstrahls könnt ihr den Entwicklungsprozess und den immensen Zeitumfang von beinahe 20 Jahren bis hin zum kommerziellen Einsatz in der Chipherstellung im Jahre 2009 erkennen.


Zeitlinie der Entwicklung der EUV-Lithographie

Intel selbst beschreibt das zur lösende Problem anhand einer Analogie wie folgt: Ähnlich einem winzigen Pinsel, mit dem feine Linien gezogen werden können, benötigen die Chiphersteller immer kürzere Wellenlängen, um die winzigen Schaltkreise auf einem Chip herzustellen. Heutige Lithographietechnik nutzt jedoch vergleichsweise große Wellenlängen, mit denen die winzigen Schaltkreise in der Zukunft nicht mehr hergestellt werden können. Im Gegensatz zur konventionellen Lithographie, die heute mit Wellenlängen von 193 nm arbeitet, nutzt EUV extrem kurzwelliges Licht im Bereich von 13,5 nm, so dass erst zukünftige Strukturgrößen erreichbar sein werden. Doch bis dahin ist noch ein weiter Weg zurückzulegen…im Jahr 2009 sind wir schlauer!

Quellenangabe: Alle Abbildungen, die in diesem Artikel verwendet werden, stammen von Intel.

1. Durchbruch in der Lithographie-Technik
2. Die Problemstellungen der EUV-Lithographie
3. Die Rolle der Reflexion
4. Stand der Dinge
5. Ausblick in die Zukunft

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